覆铜是指在PCB板上没有布线的区域覆上铜箔，与地线相连，以增大地线面积，减小环路面积，降低压降，提高电源效率和抗干扰能力。覆铜除了能减小地线阻抗，同时具有减小环路截面积，增强信号镜像环路等作用。因此，覆铜工艺在PCB工艺中起着非常关键的作用，不完整、截断镜像环路或者位置不正确的铜层经常会导致新的干扰，对电路板的使用产生消极影响。

DPC基板制备工艺流程

DPC基板结构

覆铜工艺与厚膜工艺比较

LAM工艺及DPC工艺

在LAM工艺中，陶瓷金属化利用高能激光束将陶瓷和金属离子态化，使两者紧密地联合在一起，达到一起生长的效果。采用LAM技术的覆铜，具有铜层厚度可控，图形精度易控等优势，斯利通陶瓷电路板覆铜厚度可以根据客户要求在1μm～1mm间定制，线宽，线径可以做到20μm。也就是说，随着科学技术在激光领域的应用与深入，PCB行业的覆铜技术已经可以通过激光技术达到陶瓷跟金属层结合度高、性能优良等的效果。

在DPC工艺中，采用的是电镀工艺，陶瓷金属化一般采用溅射工艺在陶瓷表面依次形成以铬或钛为材料的粘附层和以铜为材料的种子层，粘附层可以增加金属线路的粘附强度，铜种子层则起到导电层的作用。